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Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Istituto di ricerca a Itzehoe, Germania.

L'Istituto Fraunhofer per la Tecnologia del Silicio gestisce moderne strutture di camera bianca dedicate allo sviluppo e alla produzione di microelettronica e tecnologia dei microsistemi.

Fondato nel 1999, l'istituto è diventato parte integrante della Società Fraunhofer per promuovere le tecnologie basate sul silicio e le applicazioni industriali nella Germania settentrionale.

L'istituto mantiene stretti legami con istituzioni accademiche e partner industriali, facilitando lo scambio di conoscenze attraverso programmi specializzati e collaborazioni di ricerca.

Gli scienziati sviluppano componenti di elettronica di potenza e microsistemi per applicazioni in medicina, ingegneria ambientale, tecnologia delle comunicazioni e industria automobilistica.

L'istituto dispone di capacità produttive che consentono la produzione diretta di microchip su scala industriale, collegando la ricerca all'implementazione commerciale.

Posizione: Itzehoe

Inizio: 1999

Parte di: Fraunhofer Society

Sito web: http://isit.fraunhofer.de

Coordinate GPS: 53.95720,9.48278

Ultimo aggiornamento: 3 marzo 2025 alle 16:22

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