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Fraunhofer Institute for Silicon Technology

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Fraunhofer Institute for Silicon Technology
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Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Istituto di ricerca a Itzehoe, Germania.

L'Istituto Fraunhofer per la tecnologia del silicio è una struttura di ricerca a Itzehoe che si concentra sullo sviluppo di semiconduttori e microsistemi. L'edificio contiene laboratori moderni con condizioni speciali dove vengono prodotti chip e componenti per varie industrie.

L'istituto è stato fondato nel 1999 come parte della Società Fraunhofer, che supporta la ricerca in Germania. Da allora, è diventato un centro importante per sviluppare tecnologie del silicio nella Germania settentrionale.

L'istituto collabora strettamente con università e aziende per condividere conoscenze sulle tecnologie moderne. I visitatori possono vedere come la ricerca e l'industria sono collegate qui attraverso progetti congiunti.

L'istituto si trova a Itzehoe ed è accessibile con i mezzi pubblici, che offrono buoni collegamenti alla città. I visitatori dovrebbero informarsi in anticipo poiché non tutte le aree sono aperte al pubblico.

L'istituto gestisce i propri impianti di produzione, che gli permettono di produrre microchip su scala industriale. Questo è insolito perché le istituzioni di ricerca in genere sviluppano prodotti mentre la produzione avviene in fabbriche separate.

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Posizione
Inizio
1999
Parte di
Fraunhofer Society
Coordinate GPS
53.95720,9.48278
Ultimo aggiornamento
13 dicembre 2025 alle 13:22
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« Fraunhofer Institute for Silicon Technology - Istituto di ricerca a Itzehoe, Germania » è fornito da Around Us (it.aroundus.com). Le immagini e i testi sono tratti dal progetto Wikimedia con licenza Creative Commons. È possibile copiare, distribuire e modificare copie di questa pagina, alle condizioni stabilite dalla licenza, a condizione che questa nota sia chiaramente visibile.

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